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|  | II 福井県地域結集型共同研究事業の総括(福井県) |
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| | III 事業報告 |
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| | 1. 事業概要 |
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| | 2. 事業実施報告 |
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| | 3. 共同研究実施報告 |
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| | (1)研究体制の構築 |
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| | (2)研究テーマの推移 |
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| | (3)研究成果 |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
超短パルスマイクロチップレーザおよび超短パルス増幅器の開発 (フェーズI)
超短パルスYb:YAGレーザの開発 (フェーズII)
| 38-40
| | | 平等 拓範, 常包 正樹, トライアン・ダスカル , 石月 秀貴, パベル・ニコライ | | | [抄録] [PDF (31K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
小型ナノ秒パルスYb系レーザの開発 (フェーズI)
高出力超短パルスレーザ増幅器の開発 (フェーズII)
| 41-42
| | | 平等 拓範, 川戸 栄, 末田 敬一, 楊 鴻儒 | | | [抄録] [PDF (25K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
フェムト秒域固体レーザのモード同期材料と発振法の研究
| 43-44
| | | 平等 拓範, 北嶋 巌 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
半導体可飽和吸収鏡によるモード同期Yb;YAGレーザの開発
| 45-46
| | | 平等 拓範, 鳥塚 健二, 植村 禎夫, 小林 洋平 | | | [抄録] [PDF (16K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
近赤外域波長可変高出力OPOの開発
| 47-48
| | | 平等 拓範, 川戸 栄, 末田 敬一 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
超小型固体レーザを用いた広域環境汚染微量分子センサの開発
| 49-50
| | | 平等 拓範, 川戸 栄 | | | [抄録] [PDF (13K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
中赤外域波長可変高出力OPOの開発
| 51-52
| | | 平等 拓範, 石月 秀貴, 庄司 一郎 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
光ファイバー歪みアナライザに関する開発
| 53-54
| | | 平等 拓範, 曹 健 | | | [抄録] [PDF (13K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
高速波長可変OPOレーザによる廃棄物樹脂分別法の基礎研究
| 55
| | | 平等 拓範, 西垣内 章治, 岡島 武志 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
ジオテキスタイル歪測定用レーザセンサの開発
| 56-57
| | | 平等 拓範, 曹 健 | | | [抄録] [PDF (13K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
Yb:YAGレーザの性能評価
| 58-59
| | | 平等 拓範, 片岡 俊彦 | | | [抄録] [PDF (30K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
高出力紫外光発生用希土類カルシウムオキシボレート非線形結晶の開発
| 60-61
| | | 平等 拓範, 佐々木 孝友, 森 勇介, 吉村 政志 | | | [抄録] [PDF (18K)] |
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| | | Yb:YAGレーザの波長変換方の開発
温室効果ガス計測のための近赤外単一周波数レーザの研究
| 62-63
| | | 平等 拓範, 川戸 栄 | | | [抄録] [PDF (19K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
ナノ秒パルスYb:YAGレーザによるフォトンマシニングセンタの開発 (フェーズI)
Yb:YAGレーザによるフォトンマシニングセンタの開発 (フェーズII)
| 64-65
| | | 冨田 誠一, 田中 隆三, 市村 誠, 岩井 善郎, 竹下 晋正 | | | [抄録] [PDF (19K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
複合金属造形システムの研究
| 66
| | | 冨田 誠一, 吉田 徳雄, 東 喜万, 阿部 諭, 峠山 祐彦 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
レーザ三次元造形技術の開発
| 67-68
| | | 冨田 誠一, 小坂田 宏造, 塩見 誠規 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
フェムト秒パルス固体レーザ加工法の調査および基礎実験
| 69-70
| | | 冨田 誠一, 岩井 善郎, 竹下 晋正 | | | [抄録] [PDF (16K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
レーザビームを用いた固体粒子計測装置の高度化
| 71-72
| | | 冨田 誠一, 岩井 善郎 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
レーザアブレーション現象の高感度・超高速その場観測システムの開発
| 73-74
| | | 冨田 誠一, 山本 富士夫, 本田 知己, 仁木 秀明 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
高感度・高速アブレーション分光計測技術の開発
| 75-76
| | | 冨田 誠一, 香川 喜一郎 | | | [抄録] [PDF (18K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
フェムト秒レーザによる透明材料のアブレーション加工機構の検討
| 77-78
| | | 冨田 誠一, 緑川 克美 | | | [抄録] [PDF (13K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
一括露光型マイクロ光造形によるIT用超微小部品製作加工技術に関する研究
| 79-80
| | | 冨田 誠一, 松尾 光恭, 松井 多志 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
短パルスレーザを用いた微細加工の研究
| 81-82
| | | 冨田 誠一, 松尾 光恭, 松井 多志, 芦原 将彰 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
光造形による眼鏡枠試作高度化研究
| 83-84
| | | 冨田 誠一, 後藤 基浩 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
低剛性品の高精度化研究
| 85-86
| | | 冨田 誠一, 宮下 正美 | | | [抄録] [PDF (17K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
高出力レーザによる難加工性材料の接合・切断に関する研究
| 87-88
| | | 冨田 誠一, 高岡 清彦, 強力 真一 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
金型製造の迅速化技術
| 89-90
| | | 冨田 誠一, 高岡 清彦, 宮下 正美, 強力 真一 | | | [抄録] [PDF (13K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
UVレーザ光による微細加工技術の開発
| 91-92
| | | 冨田 誠一, 青柳 裕治, 宮崎 孝司 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | レーザアブレーション機構と最適加工条件の解明
フェムト秒レーザによる繊維の表面加工技術に関する研究 (フェーズI)
フェムト秒レーザによる高分子材料(繊維素材等)への表面加工技術に関する研究 (フェーズII)
| 93-94
| | | 冨田 誠一, 高木 進, 櫻井 理博 | | | [抄録] [PDF (25K)] |
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| | | レーザアブレーション機構と最適加工条件の解明
フェムト秒レーザー光による微細加工技術の開発
| 95-96
| | | 冨田 誠一, 加藤 住雄, 宮下 昭治 | | | [抄録] [PDF (19K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高密度薄膜磁性媒体の開発のためのスパッタ条件などの探索
| 97-98
| | | 太田 泰雄, 北浦 守, 米田 知晃, 中川 茂樹 | | | [抄録] [PDF (21K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
単結晶シリコン基板表面のレーザ光洗浄法の基礎解析
| 99-100
| | | 太田 泰雄, 大橋 健, 津森 俊宏 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
対向電極スパッタリング法による薄膜磁性媒体の作製
| 101-102
| | | 太田 泰雄, 中川 茂樹 | | | [抄録] [PDF (16K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高機能硬質膜のレーザ表面加工・改質技術の開発
| 103-105
| | | 太田 泰雄, 安丸 尚樹, 木内 淳介, 宮崎 健創 | | | [抄録] [PDF (21K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高インデックスハードコーティングに関する研究
| 106
| | | 太田 泰雄, 小林 真 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高密着性ハードコート技術を用いたプラスチックレンズの開発
| 107-108
| | | 太田 泰雄, 小林 真 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
短パルス高強度レーザーによる機能性硬質膜制御技術の研究
| 109-110
| | | 太田 泰雄, 宮崎 健創 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
YAG高調波レーザを用いるIT用高分子材料表面改質の研究および次世代型アンテナの試作
| 111-112
| | | 太田 泰雄, 宮崎 孝司, 青柳 裕治 | | | [抄録] [PDF (13K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
レーザーによるプラスチック表面の改質とモディファイ (フェーズI)
超短パルスレーザによるプラスチック表面の改質とモディファイ (フェーズII)
| 113-114
| | | 太田 泰雄, 坂井 紀夫, 秋田 清, 大谷 幸宏, 兼岩 秀和 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
耐高温ハロゲン化金属薄膜創生とレーザ応用表面改質装置および長寿命HIDランプの開発 (フェーズI)
レーザ応用表面改質装置および長寿命HIDランプの開発 (フェーズII)
| 115-116
| | | 太田 泰雄, 井上 昭浩, 村田 和男, 梅田 達夫, 葛生 伸 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
表面処理の多元評価
| 117
| | | 太田 泰雄, 高岡 清彦, 真柄 宏之, 野村 光司 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高出力パルスレーザを用いた超鏡面精密洗浄技術の開発と機能性薄膜の創成
表面性能の微視的解析
| 118
| | | 太田 泰雄, 高岡 清彦, 真柄 宏之, 野村 光司 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
前処理を必要としない部分めっきの開発
| 119
| | | 太田 泰雄, 真柄 宏之 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
スパッター法による創生薄膜の表面観察評価 (フェーズI)
スパッター法およびレーザアブレーション法によるHID用保護膜の評価 (フェーズII)
| 120-121
| | | 太田 泰雄, 野口 英彦 | | | [抄録] [PDF (16K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
耐高温ハロゲン化金属薄膜の開発研究
| 122-123
| | | 太田 泰雄, 井上 昭浩 | | | [抄録] [PDF (16K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
管球材料の劣化メカニズムの解明と最適材料の選択
| 124-125
| | | 太田 泰雄, 葛生 伸 | | | [抄録] [PDF (13K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
超長寿命高輝度ランプのための管球製造技術の開発 (フェーズI)
高出力パルスレーザを用いた長寿命HIDランプの創生 (フェーズII)
| 126-127
| | | 太田 泰雄, 芹澤 和泉, 吉田 雄介 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高分子材料の機能解析技術の開発
| 128-129
| | | 太田 泰雄, 上山 明彦 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する開発
高機能硬質膜の化学的評価
| 130
| | | 太田 泰雄, 南保 幸男 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する開発
有機金属原料およびV族元素水素化物原料の光化学反応過程に関する基礎的検討 (フェーズI)
有機金属原料およびV族元素水素化物原料の光化学反応過程に関する研究 (フェーズII)
| 131-132
| | | 太田 泰雄, 山本 あき勇, 橋本 明弘, 高山 勝己 | | | [抄録] [PDF (27K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する開発
金属酸化物での薄膜創成と化学的機能性の解析
| 133
| | | 太田 泰雄, 南保 幸男 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
III-V族窒化物半導体薄膜のエピタキルシャル成長に関する研究
| 134-135
| | | 太田 泰雄, 山本 あき勇 | | | [抄録] [PDF (13K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
第III族金属窒化物による薄膜創成の開発
| 136-137
| | | 太田 泰雄, 南保 幸男 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
レーザ誘起光化学反応を用いた選択薄膜成長技術の開発 (H15)
レーザ誘起光化学反応を用いた低温薄膜成長技術の開発(H16, H17)
| 138-139
| | | 太田 泰雄, 南保 幸男, 山本 あき勇 | | | [抄録] [PDF (18K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
光化学反応過程の解析のためのシミュレーションモデルの検討
| 140-141
| | | 太田 泰雄, 川本 昂, 山本 幸男 | | | [抄録] [PDF (13K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高速・高耐熱の薄膜半導体の開発
| 142-143
| | | 太田 泰雄, 岡本 崇司, 橋本 明弘 | | | [抄録] [PDF (15K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
紫外線吸収剤を正孔輸送層に用いた有機EL素子の開発
| 144
| | | 太田 泰雄, 川本 昂, 高戸 章暎 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
窒化物半導体の薄膜成長とデバイス応用に関する研究
| 145-146
| | | 太田 泰雄, 山本 あき勇 | | | [抄録] [PDF (16K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高効率太陽電池用III-V族窒化物半導体のエピタキシャル成長に関する研究
| 147
| | | 太田 泰雄, 橋本 明弘 | | | [抄録] [PDF (14K)] |
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| | (4)今後の展開(総括) |
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| | 4. 成果移転活動報告および今後の予定 |
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| | 5. 都道府県支援報告および地域波及効果報告 |
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| | IV 成果報告 |
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| | 1. 地域COE構築に関する報告 |
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| | 2. 新技術・新産業の創出に関する報告 |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
高出力・短パルスYb:YAGレーザの開発
超短パルスYb:YAGレーザの開発
| 180-196
| | | 平等 拓範, 常包 正樹, トライアン・ダスカル , 石月 秀貴, パベル・ニコライ | | | [抄録] [PDF (737K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
高出力・短パルスYb:YAGレーザの開発
高出力超短パルスレーザ増幅器の開発
| 197-213
| | | 末田 敬一, 川戸 栄 | | | [抄録] [PDF (970K)] |
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| | | 高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
Yb:YAGレーザの波長変換法の開発
高出力紫外光発生用希土類カルシウムオキシボード非線形結晶の開発
| 214-224
| | | 佐々木 孝友, 森 勇介, 吉村 政志 | | | [抄録] [PDF (213K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
多機能フォトンマシニングセンタの開発
多機能フォトンマシニングセンタの開発
| 225-244
| | | 冨田 誠一, 田中 隆三, 市村 誠, 岩井 善郎, 竹下 晋正 | | | [抄録] [PDF (512K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
多機能フォトンマシニングセンタの開発
レーザ三次元造形技術の開発
| 245-249
| | | 小坂田 宏造, 塩見 誠規 | | | [抄録] [PDF (113K)] |
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| | | 高輝度光ビーム加工技術に関する研究
レ−ザアブレーション機構と最適加工条件の解明
高感度・高速アブレーション分光計測技術の開発
| 250-265
| | | 香川 喜一郎 | | | [抄録] [PDF (505K)] |
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|
| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高出力パルスレーザを用いた超鏡面精密洗浄技術の開発と機能性薄膜の創成
高密度薄膜磁性媒体の開発のためのスパッタ条件などの探索
| 266-273
| | | 太田 泰雄, 北浦 守, 大橋 健, 中川 茂樹 | | | [抄録] [PDF (205K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高出力パルスレーザーを用いた超鏡面精密洗浄技術の開発と機能性薄膜の創成
高機能硬質膜のレーザー表面加工・改質技術の開発
| 274-287
| | | 安丸 尚樹, 木内 淳介, 宮崎 健創 | | | [抄録] [PDF (736K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高出力パルスレーザを用いた長寿命HIDランプの創成
レーザ応用表面改質装置および長寿命HIDランプの開発
| 288-297
| | | 村田 和男, 井上 昭浩, 葛生 伸 | | | [抄録] [PDF (187K)] |
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| | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
レーザ誘起光化学反応を用いた選択薄膜成長技術の開発
有機金属原料およびV族元素水素化物原料の光化学反応過程に関する研究
| 298-308
| | | 山本 あき勇, 橋本 明弘, 高山 勝己 | | | [抄録] [PDF (316K)] |
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| | 3. 成果活用に関する報告 |
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| | (1)特許 |
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| | (2)成果展開報告 |
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| | V その他 |
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| | 1. 周辺技術動向、パテントマップ、技術マップ |
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| | 2. 成果一覧 |
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| | 3. 参加者一覧 |
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| | あとがき |
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