 | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
高出力パルスレーザを用いた超鏡面精密洗浄技術の開発と機能性薄膜の創成
高密度薄膜磁性媒体の開発のためのスパッタ条件などの探索
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| | 太田 泰雄1), 北浦 守1), 大橋 健2), 中川 茂樹3) |
| 1) 福井工業高等専門学校
2) 信越化学工業(株)
3) 東京工業大学 |
| Abstract (1)レーザ洗浄機能つきスパッタリング装置を作製し、実際のレーザ洗浄、薄膜磁気媒体の作成を行った。この装置は今後、半導体製造プロセスに一大変革をもたらす可能性を秘めている。
(2)レーザ光を拡散させずに、シリコン表面に照射させたとき、シリコン表面にアブレーションによる再結晶模様などが現れることが確認された。この技術は今後、次世代ディスプレイFEDや、マイクマシーンなどに応用される可能性がある。 |
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