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平成12年度事業開始
福井県 「光ビームによる機能性材料加工創成技術開発」
  101-102
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高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
対向電極スパッタリング法による薄膜磁性媒体の作製

太田 泰雄1), 中川 茂樹2)
1) 福井工業高等専門学校
2) 東京工業大学
Abstract  単結晶Siウェファーに代表される超鏡面基板を用いた高密度薄膜磁性媒体スパッタリング条件の探索を行い、Co合金薄膜や高磁気異方性六方晶フェライト膜のSi基板上の結晶成長を解析し、結晶粒サイズの制御を行うことで表面平滑性を向上させる。

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