JST200303 : 平成12年度事業開始<br>福井県　「光ビームによる機能性材料加工創成技術開発」 38-40

高輝度Yb:YAG固体レーザ技術に関する研究
超短パルスマイクロチップレーザおよび超短パルス増幅器の開発 (フェーズI)
超短パルスYb:YAGレーザの開発 (フェーズII)

平等拓範¹⁾, 常包正樹²⁾, トライアン・ダスカル²⁾, 石月秀貴¹⁾, パベル・ニコライ¹⁾

1) 分子科学研究所
2) ふくい産業支援センター

Abstract 高出力・超短パルスYb:YAGレーザを目指し、主に(1)超短パルス発生法と(2)高出力・高効率動作法の開発を中心にYb:YAGマイクロチップレーザの研究を進めた。