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| 平成12年度事業開始
福井県 「光ビームによる機能性材料加工創成技術開発」 145-146 |
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 | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究
窒化物半導体の薄膜成長とデバイス応用に関する研究
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| | | | Abstract 本研究は、InN、GaNを中心としたIII族窒化物半導体の高品質薄膜形成技術を確立することによって、新規デバイス開発の基礎技術を確立することを目的としている。 |
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