 |
 1 
|  | IV 成果報告 |
|
| | 2. 新技術・新産業の創出に関する報告 |
|
| | (1) 超精密高速ステージ開発 |
|
| | | 超精密高速ステージの開発
ステージ制御応用技術開発
| 3-18
| | | 小坂 光二, 岩渕 哲也, 馬場 哲朗, 奥寺 智, 宮田 昇, 渡辺 雅幸, 石井 守, 森山 司郎, 佐々木 俊一, 荒尾 淳, 井上 知行, 高木 宏司, 江頭 義也, 遠藤 泰史, 橋口 弘幸, 橋本 誠司, 大石 潔, 魚住 清彦, 古川 博之, 中田 明良, 久保田 弘, 大見 忠弘 | | | [抄録] [PDF (3438K)] |
|
|
| | | 高出力圧電素子技術開発
| 19-24
| | | 宮田 昇, 松野 晋, 渡邉 雅幸, 萬矢 晃庸, 小坂 光二, 馬場 哲郎, 岩渕 哲也, 中田 明良, 久保田 弘 | | | [抄録] [PDF (160K)] |
|
|
| | | ステージ軽量化技術開発
| 25-29
| | | 森山 司朗, 佐々木 俊一, 廣瀬 正孝, 小坂 光二, 岩渕 哲也, 石井 守, 梅津 基宏, 東町 高雄, 久保田 弘, 大見 忠弘 | | | [抄録] [PDF (200K)] |
|
|
| | (2) 計測技術開発 |
|
| | | 3次元形状計測手法の開発
| 31-36
| | | 山崎 裕一郎, 阿部 和夫, 木村 浩二, 鶴我 靖子, 野間 孝幸, 岡田 真一, 濱口 晶, 鈴木 等, 高地 伸夫, 小池 紘民 | | | [抄録] [PDF (251K)] |
|
|
| | | プローバ高周波計測技術開発
| 37-41
| | | 神立 信一, 金沢 守道, 石松 賢治, 鈴木 幸三朗, 長畑 博之, 松藤 秀史, 佐々木 守, 福迫 武 | | | [抄録] [PDF (106K)] |
|
|
| | (3) デバイス形成技術開発 |
|
| | | プラズマ異常放電監視法開発
| 43-50
| | | 八坂 三夫, 北村 智行, 田間 政義, 竹下 正吉, 児玉 昭和, 岡村 浩治, 上杉 文彦, 伊藤 奈津子, 板垣 洋輔, 萩原 宗明, 宮川 隆二, 浅野 種正 | | | [抄録] [PDF (611K)] |
|
|
| | | レジスト塗布工程におけるスキャン塗布・減圧乾燥技術の開発
| 51-58
| | | 吉岡 和敏, 竹下 和弘, 北野 高広, 河田 敦, 鏡 裕幸, 宮川 隆二, 森川 晃次 | | | [抄録] [PDF (151K)] |
|
|
| | | 次世代実装対応めっき技術研究開発
| 59-63
| | | 久保田 弘, 土岐 荘太郎, 佐々木 淳, 古屋 明彦, 杉村 正彦, 脇坂 康尋, 内田 大輔, 萩原 宗明, 筑間 光靖, 徳田 博, 平野 勝, 浅 富士夫, 栗林 幸一郎, 野田 智子, 神戸 秀夫, 溝口 弘明, 村上 洋二, 佐々木 守, 福迫 武, 本武 幸一 | | | [抄録] [PDF (57K)] |
|
|
| | | 液晶輝度ムラ検査装置開発
| 65-71
| | | 田口 智弘, 山川 昇, 大隈 義信, 上村 直, 大隈 恵治, 黒木 卓也, 小山 善文 | | | [抄録] [PDF (107K)] |
|
|
| | | 膜厚ムラ検査装置開発
| 73-80
| | | 藤井 敏夫, 相川 創, 久保田 弘, 中田 明良, 羽山 隆史, 森川 晃次, 新庄 信博, 小山 善文, 井上 知行, 宮川 隆二, 北野 高広 | | | [抄録] [PDF (173K)] |
|
|
| | | 微細加工・計測技術開発
| 81-91
| | | 中村 一光, 森本 達郎, 久保田 弘, 中田 明良, 赤道 孝之, 井口 恒夫, 占部 憲治, 小坂 光二, 小坂 哲也, 馬場 哲朗, 藤井 敏夫, 相川 創, 高山 由則, 鈴木 信二, 若杉 雄彦, 中村 博文 | | | [抄録] [PDF (138K)] |
|
|
1 | |
