| | TOP > 巻一覧 > 目次一覧 > 書誌事項 | 平成12年度事業開始 福井県 「光ビームによる機能性材料加工創成技術開発」 145-146 |
| [PDF (16K)] | | 高輝度光ビームによる薄膜形成技術に関する研究 窒化物半導体の薄膜成長とデバイス応用に関する研究
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| | | Abstract 本研究は、InN、GaNを中心としたIII族窒化物半導体の高品質薄膜形成技術を確立することによって、新規デバイス開発の基礎技術を確立することを目的としている。 | | | | Copyright (c) 2006 独立行政法人 科学技術振興機構 |
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