 | 超高密度フォトン利用実証レーザーシステムの開発
LDを用いた高強度フェムト秒レーザーの開発
高性能化の研究
冷却機構の開発 (フェーズII)
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| | | | Abstract LDは局所的に高い熱量を発生する発熱体であり、これを温度精度0.1度程度に安定して冷却動作させることが、TWレーザーを高効率で安定に駆動させる鍵である。そこで、LDを冷却する技術としてのヒートシンクは不可欠で、本事業でもフェーズIの段階より銅の複雑な内部形状を持たせたヒートシンクの提案・試作・解析を進めてきた。その研究に基づき、フェーズIIでは、より熱特性が安定し、電源の不要なヒートパイプを用いた冷却方法の詳細検討を開始した。小型ヒートパイプを用いた高性能半導体レーザー(LD)冷却機構として、噴流タイプのシングルアレイの半導体レーザーに対し、冷却能力の限界性能を見極め効果の実証を行う。LDやLD電源の冷却性能を向上させることと、冷却水をLD近傍に持ち込む必要がないということを目的としており、水冷溶媒を通常の水道水で可能とすることができるなどのメリットがあり、当初研究目的の、金属鏡面加工を用いて冷却性能を向上すること、およびヒートパイプによる冷却の性能向上をねらう。 |
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