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平成11年度事業開始
熊本県　「超精密半導体計測技術開発（別冊：新技術・新産業の創出に関する報告）」  pp.81-91
微細加工・計測技術開発
中村 一光, 森本 達郎, 久保田 弘, 中田 明良, 赤道 孝之, 井口 恒夫, 占部 憲治, 小坂 光二, 小坂 哲也, 馬場 哲朗, 藤井 敏夫, 相川 創, 高山 由則, 鈴木 信二, 若杉 雄彦, 中村 博文

(1) 田辺 功, 竹花 洋一, 法元 盛久, “超LSI, 液晶, プリント板を支えるフォトマスク技術の話”, 第2章フォトマスク製造の基本技術, 工業調査会（1996）
(2) T. Horiuchi, T. Miyakawa, and S. Hosoda, “A New Projection Exposure Method Using a Liquid Crystal Display as a Switching Matrix in place of a Reticle,” Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 39, 324(2000)
(3) U. Ljungblad, T. Sandstrom, H. Buhre, P. Durr, and H. Lakner, “New Architecture for Laser Pattern Generators for 130nm and Beyond”, BACUS News, Vol. 15(Apr. 2001)
(4) 森本達郎他, 2003年電子情報通信学会総合大会,
(5) 赤道孝之他, 第50回応用物理学関係連合講演会予稿集 NO.2, 763(2003)
(6) K. Nakamura, H. Kubota, A. Nakada, T. Inokuchi, and K. Kosaka, “Development of Reticle-Free Exposure Method with LCD Projection Image”, SPIE, Vol. 4754, 737(2002)
(7) 赤道孝之他, 第63回応用物理学会学術講演会予稿集NO.2, 635(2002)
(8) T. Morimoto, K. Nakamura, H. Kubota, A. Nakada, T. Akamichi, T. Inokuchi, K. Urabe, and K. Kosaka, “Arbitrary Pattern Fabrication by means of Reticle-Free Exposure Method with LCD”, Proceedings of Photomask Japan 2003, 211(2003)