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平成11年度事業開始
熊本県　「超精密半導体計測技術開発（別冊：新技術・新産業の創出に関する報告）」  pp.51-58
レジスト塗布工程におけるスキャン塗布・減圧乾燥技術の開発
吉岡 和敏, 竹下 和弘, 北野 高広, 河田 敦, 鏡 裕幸, 宮川 隆二, 森川 晃次

1) S. Ito, T. Ema, T. Kitano, K. Sho, Y. Esaki, M. Morikawa K. Takeshita, M. Akiomoto and K. Okumura Jpn. J. Appl. Phys., 39, 6972(2000)
2) Langmuir, I., Phys. Rev., 2, 329(1913)
3) Hickman, K. C. D. and D. J. Trevoy, Ind. Eng. Chem., 44, 1882(1952)