 | 高速分子進化のための基盤技術の開発
配列空間適応歩行技術の展開
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| | 西垣 功一1), 相田 拓洋2), 二木 類2), 仲島 日出男3), 富永 達矢3), 後藤 仁志4) |
| 1) 埼玉大学大学院理工学研究科
2) （財）埼玉県中小企業振興公社
3) 埼玉県産業技術総合センター北部研究所
4) 豊橋技術科学大学大学院工学研究科 |
| Abstract 進化分子工学におけるダーウィン進化とは配列空間における適応度の山を登山することである。山の地形の統計的性質がわかっていると合理的な山登りができる。これを適応歩行技術という。具体的には逐次の突然変異体ライブラリーを地形の性質に合わせて作製するのである。次の2つの分子の進化を例題として、適応歩行技術を改良する。
・ペディオシン（抗菌ペプチド）の抗菌スペクトルの改変：配列空間適応歩行技術を利用して、ペディオシンの進化工学実験を行い、抗菌活性が上昇した改良体の取得を目指す。
・アルデヒド還元酵素の耐熱化：偏向変異集積（BMA）法をアルデヒド還元酵素の耐熱化に適用する。BMA法一般のための１次ライブラリ作成法の改良を行う。また、実験室内分子進化の理論を発展させる。 |
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