JST200303 : 平成14年度事業開始<br>高知県　「次世代情報デバイス用薄膜ナノ技術の開発」 61

保護膜低温形成技術の開発
3-1、3-2 保護膜低温形成技術の開発

平尾孝¹⁾, 古田寛¹⁾, 亀井龍一郎²⁾, 山下睦夫²⁾

1) 高知工科大学総合研究所
2) 誠南工業（株）

Abstract プラスチック液晶、電子ペーパー、フレキシブル有機EL等の次世代ディスプレイに用いる有機基板上に形成されるTFTデバイスの信頼性確保のための保護膜を低温形成する装置技術やプロセス技術を開発する。また、プラスチック基板上に耐水性を有する保護膜を室温形成する装置やプロセス技術を開発する。