| | TOP > 巻一覧 > 目次一覧 > 書誌事項 | 平成14年度事業開始 高知県 「次世代情報デバイス用薄膜ナノ技術の開発」 58 |
| [PDF (27K)] | | SiGe-TFT技術の開発 1-2-2 SiGe-TFT技術の開発
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| 平尾 孝1), 尾浦 憲治郎2), 片山 光浩2), 本多 信一2) |
| 1) 高知工科大学 総合研究所 2) 大阪大学大学院 工学研究科 |
| Abstract SiGe-TFT基本製膜プロセス開発と、単層Si、Ge膜形成技術を開発する。また、積層構造による歪Siの形成技術と歪評価技術の開発を行なう。 | | | | Copyright (c) 2008 独立行政法人 科学技術振興機構 |
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