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平成14年度事業開始
高知県 「次世代情報デバイス用薄膜ナノ技術の開発」
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SiGe-TFT技術の開発
1-2-2 SiGe-TFT技術の開発

平尾 孝1), 尾浦 憲治郎2), 片山 光浩2), 本多 信一2)
1) 高知工科大学 総合研究所
2) 大阪大学大学院 工学研究科
Abstract  SiGe-TFT基本製膜プロセス開発と、単層Si、Ge膜形成技術を開発する。また、積層構造による歪Siの形成技術と歪評価技術の開発を行なう。

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