| 次世代透明導電膜技術の開発 次世代透明導電膜技術の開発(コア研究室)
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| Abstract 酸化亜鉛(ZnO)を基材とした液晶表示装置(LCD)などを用途とする透明導電膜の研究を行なう。 具体的には、基礎的研究項目として、低抵抗率(10-5 Ωcm 台への実現)を目標とする。実用化研究項目では以下の4つを研究項目とする。 (1)膜厚 100 - 150 nm 前後で、シート抵抗 5 - 30 Ω/Sq.以下、膜厚 50-100 nm で、シート抵抗 100 - 150 Ω/Sq.以下 (2)可視光領域での平均透過率 80 % 以上、波長 550 nm で、透過率最高となるような膜厚制御 (3)250 ℃、3 時間の条件下で、抵抗率変動 15 % 以内 (4)製膜装置の製膜高速化と表面平均粗さ 1.2 nm 以下。 | | | |