JST200303 : 平成12年度事業開始<br>静岡県　「超高密度フォトン産業基盤技術開発（別冊）」 33-45

超高密度フォトン利用実証レーザーシステムの開発
LDを用いた高強度フェムト秒レーザーの開発
YAGレーザーの開発
微細加工レーザー装置の開発 (フェーズI)

岡田康光¹⁾, 松岡伸一¹⁾, 中野文彦¹⁾, 玉置善紀¹⁾, 瀧口義浩¹⁾, 稲田晴彦¹⁾

1) 光科学技術研究振興財団

Abstract 半導体レーザー励起微細加工用Nd:YAGレーザーの開発を行った。レーザー加工を行う為に必要なビーム品質の向上、第2高調波(波長: 532nm)の高出力化及びビーム強度の安定化を目的とした。