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平成12年度事業開始
静岡県 「超高密度フォトン産業基盤技術開発(別冊)」
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超高密度フォトン利用実証レーザーシステムの開発
LDを用いた高強度フェムト秒レーザーの開発
YAGレーザーの開発
Ti:Sapphire励起用パルスグリーンレーザーの開発(高繰り返し) (フェーズII)

岡田 康光1), 松岡 伸一1), 中野 文彦1), 吉井 健裕1), 佐藤 方俊1), 玉置 善紀1), 伊山 功一1), 加藤 義則1)
1) 光科学技術研究振興財団
Abstract  レーザーB(ピーク出力0.1TW、繰り返し周波数1kHz、パルス幅150fs以下)のチタンサファイア結晶を励起するNd:YAGパルスグリーンレーザー開発を行った。レーザー媒質にはNd:YAGロッドを用いており、また高出力で高ビーム品質を実現する為に、発振器と増幅器から構成されるMOPA方式を採用した。

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