JST200303 : 平成11年度事業開始<br>岩手県　「生活・地域への磁気活用技術の開発　〜磁場産業の創生〜」 pp.36

平成11年度事業開始
岩手県　「生活・地域への磁気活用技術の開発　〜磁場産業の創生〜」 pp.36

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磁場活用技術の開発
トリアジンチオール等を利用した薄膜製造プロセス

清水健司¹⁾, 森邦夫¹⁾, 馬場守¹⁾, 小川智¹⁾, 吉本則之¹⁾, 大石好行¹⁾, 鈴木一孝²⁾, 叶榮彬, 李尚学

1) 岩手大学工学部
2) 岩手県工業技術センター

Abstract 磁場環境下においてトリアジンチオール類のウェット法及びドライ法により配向及び配列高分子薄膜として成膜する方法を開発し、これらをマグネシウム合金の耐食性の向上、耐久性金属の離型処理、転写板の製造、及び平板型薄膜コンデンサーの製造などに応用する。