JST200303 : 平成9年度事業開始<br>福岡県　「新光・電子デバイス技術基盤の確立 −新光・電子デバイスの開発による計測・制御・情報技術の創成−（別添）」 234-240

光機能性無機材料の開発
光機能性ガラス材料
薄膜型光導波路及び光ファイバ材料の開発
多層ガラスセラミックス光導波路基板の研究開発

因浩之¹⁾, 武部博倫²⁾, 森永健次²⁾

1) 福岡県産業・科学技術振興財団
2) 九州大学

Abstract 光導波路基板の構造を図4-1-1-1に示した。シリコンや石英等の基板上にコア膜および下部クラッドを構成するもので、コア膜の屈折率がクラッドに対して所定量高い。
光導波路基板に対しては光損失が極めて少ないことが要求されるため、基盤技術として透明性の高い石英ガラス膜の形成技術と膜厚の制御技術を確立することが不可欠である。
低コストガラス薄膜のプロセスを検討するために、サポート技術として高品位ガラス膜の標準製法としてrfスパッタ法を採択した。本方法では球状介在物のない理想的なガラス膜の形成が可能である。ただしSiO₂は反応性スパッタ過程により進行するため、高品位膜を得るためには条件の最適化が必要であり、特に大きな影響を及ぼす雰囲気の影響を中心に調査を行い、清浄な膜形成条件を検討するとともに成膜速度を明らかにした。
次に低コスト膜形成方法として石英超微粒子を用いたスラリー法を検討した。低コストで成膜するためには塗布法が有力であるが、再現性のある膜厚制御を行うためには、粘度の調整が必要である。同スラリーを用いて粘度の調整と膜厚制御性の検討を行い、膜の緻密化の検討を行った。