 | | | 1) 舛本単一量子点プロジェクト
2) 日本電気(株)光·無線デバイス研究所
3) 量子点形成グループ |
| | 単原子層膜厚以下の制御性で半導体結晶成長を行うことができる分子線エピタキシー法や有機金属気相成長法は、自己形成的に半導体量子点(量子ドット、量子箱)を作製する際に、非常に有効な手法である。さらに、光学的にも良好な構造を作製できるため、実際の半導体デバイスへと、量子点を応用していくことも可能である。ここでは、分子線エピタキシーによる量子点形成技術、特にサイズ、形状などの構造の制御手法について紹介する。また日本電気(株)光·無線デバイス研究所において得られている光デバイスへの量子点の応用の初期的な結果についても紹介する。 |
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